Orateur
Description
L'ALD est une technologie de synthèse de films minces qui permet le dépôt de nombreux oxydes, quelques nitrures et métaux purs. Une variante, la Molecular Layer Deposition, est utilisée pour les films organiques. L’épaisseur des couches se contrôle au nanomètre près et les domaines d’application sont variés [1]. Les réacteurs ALD commerciaux sont onéreux mais les réacteurs home-made sont devenus fréquents.
Un projet de coopération nord-sud est en développement pour l’établissement d’une communauté utilisant l’ALD au Sénégal. Le projet comprend deux volets.
Le premier consiste en un atelier qui présentera la technologie, ses avantages et ses limites, les bases théoriques qui la sous-tendent ainsi que ses applications. L’atelier sera organisé à Dakar en 2019.
Le second volet visera la construction d’un premier réacteur ALD home-made, équipé d’outils pour la caractérisation des films synthétisés. Il permettra également de continuer à animer la communauté dont les bases seront jetées dans le premier volet.
L’utilisation de l’ALD mobilise des compétences variées. Elles s’étendent de la modélisation aux applications en microélectronique ou en production d’énergie en passant par la chimie de synthèse pour la fabrication des précurseurs. Ce projet ouvrira la voie à des collaborations interdisciplinaires tant au sein de la communauté scientifique sénégalaise qu’à l’international.
[1] S. M. George, ‘Atomic Layer Deposition: An Overview’, Chem. Rev., vol.110, n°1, pp.111–131,Jan. 2010
| Choix de session parallèle | Commission Physique sans frontière |
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