Orateur
Description
Cette étude se concentre sur un aspect fondamental de la gravure plasma : l’identification des produits de gravure dans le plasma et à la surface du matériau.
Afin d’observer les espèces réactives et les ions dans le plasma, celui-ci est analysé par spectrométrie de masse. Les spectres permettent d’identifier les produits de gravure stables SeF4, SeF6, GeF2 et GeF4. Dans le plasma, ces produits sont également dissociés et excités par impact électronique. Ceux-ci forment ainsi des atomes excités caractérisés par les raies Ge (265,1 nm) et Se (432,9 nm). Leurs intensités sont mesurées par spectrométrie d’émission optique.
La spectroscopie photoélectronique à rayons X (XPS) donne des informations sur les produits non-saturés ou non-volatils restants à la surface. Une analyse approfondie des spectres XPS permet de distinguer la nature des liaisons chimiques, et parfois, une quantification de celles-ci. Le fluor étant l’élément le plus électronégatif, celui-ci décale fortement les niveaux d’énergie des couches électroniques de ses atomes voisins. Après gravure plasma, les spectres montrent ainsi un fort décalage des énergies de liaison des niveaux Ge 3d et Se 3d dû aux liaisons Ge-F et Se-F.
Cette étude est un premier pas dans la compréhension de la gravure des verres de chalcogénure comportant du sélénium. Ces caractérisations ont pour but de faciliter l’étude d’un ternaire tel que le verre Ge-Sb-Se.
| Choix de session parallèle | 2.2 Plasmas froids: Diagnostics, Procédés et Applications |
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